半导体产业多晶硅生产用石墨制品

半导体工业多晶硅出产用石墨制品
    多晶硅出产用石墨制品
    硅半导体用的多晶硅出产用石墨制品。当今，硅资料是以存储器为中心的半导体工业所运用的首要质料。其出产制造过程中许多运用多晶硅出产用石墨制品。
    多晶硅的出产工艺为，将纯度较高的石英石（SiO2）混以焦炭、木炭等炭素资料，高温下加热恢复，生成金属硅（纯度约为98％）；然后在反响炉内使金属硅微粉和氯化氢气体反响组成硅烷气体；通过重复精粹前进硅烷气体的纯度。
    接下来的工序首要分为两种方法。一种是将三氯硅烷（ SiHCl3）和氢气的混合气体通入温度为1100℃的石英容器，使其蒸结在容器中耸峙的多晶硅芯棒的表面，并使芯棒的直径逐步变粗至150~200mm的方法（CVD法，称之为西门子法另一种是将硅粉末和单硅烷/氢的混合气体通入流化床反响容器内，加热到600℃，使硅烷分解，反响后生成1mm左右的颗粒状多晶硅的方法，称之为流化床法。
    作为上述制造工艺中所运用的多晶硅出产用石墨制品，首先是在硅烷气体制造过程中运用的用超大型等静压石墨制成的1000mm的反响容器。由于超越1000℃要与含硅或氢的周围气体触摸，有必要具有高温强度和耐化学反响性。在接下的多晶硅CVD出产法中，运用高纯石墨制成的部件有多晶硅芯棒的坚持器兼作通电电极、气体导入的通气嘴和加热器。另外，用流化床法出产颗粒状多晶硅时，也运用1000mm的高纯石墨反响容器，但是为了防止硅烷气体泄露，在其表面要进行SC涂层处理。