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- 11 石墨坩埚的预热方法对于烹饪结果有很大影响
- 12 石墨坩埚的正确预热
用未燃烧的石油焦制成的石墨制品
发布作者:jcadmin 发布时间:2024年04月10日
用未焚烧的石油焦制成的石墨制品
用未焚烧的石油焦制成的石墨制品,是二种机械强度很高的细粒结构资料,可用于制造电子技能制品,如排期、薄板、因盘、真空炉和高频电炉的加热器、巡热被、解泰她签属的石墨皿、高温实验设备的操纵器(夹头)、热压压模和过滤器等。此种资料可用于懂性气氛或保护性气氛中在2500℃以下的温度中作业;在真空(10-~10mmHgo,中于2000℃以下可以作业好久。MIT-8石墨可制成异型制品。
高纯石墨制品是用于制造半导体技能设备的各种元件,它是以普通的结构石墨在石墨化进程中用活性气体净化而成的。已净化的石墨须在防止制品污染的条件下进行机械加工。这种石墨(净化后)的灰分不超越1×10%,铁、铝、镁的含量不该超越3×105%,铜、硼、锰的含量不该超越1×10%。上面这些限制杂质含量都契合纯净级。在这些石墨里,硅钙的含量不大于3×10(质量%),。工业上还有纯度更高的结构石墨。用这种石墨制成的制品通过机械加工之后再进行弥补净化,以削减其外表感染的几率。限制杂质——铁、铝、镁、硼、铜、锰的含量不许超越1×10%,硅的含量不许超越3×10-%,钛、镍、铬及其他元素的含量应少于1x10%。这些石墨的灰分在0~10*%。各种商标特纯石墨的物理力学功能。
注:TM石墨的热处理温度为2700℃,其他各种商标石墨的热处理温度为2800~3000℃。有保护层的特纯高强石墨是由普通细结构石墨通过净化并在真空中脱气,然后用热解炭进行外表增密处理而成的。其制品(加热器、圆盘、石墨皿等)可用于以气体外延生长法制取硅薄膜。制品内杂质含量:铁不超越5×10*%,铝不超越2×10%,镁和铜不超越5x105%,钛不超越1×10*%,镍和钻不超越1×10-%。
热解炭形成的增密保护层的厚度不大于2mm。也可在通过增密处理的石墨制品的外表,还可以沉积厚度不超越0.1mm的热解石墨薄层。石墨制品经热解炭增密处理之后,其透气性和气
用未焚烧的石油焦制成的石墨制品,是二种机械强度很高的细粒结构资料,可用于制造电子技能制品,如排期、薄板、因盘、真空炉和高频电炉的加热器、巡热被、解泰她签属的石墨皿、高温实验设备的操纵器(夹头)、热压压模和过滤器等。此种资料可用于懂性气氛或保护性气氛中在2500℃以下的温度中作业;在真空(10-~10mmHgo,中于2000℃以下可以作业好久。MIT-8石墨可制成异型制品。
高纯石墨制品是用于制造半导体技能设备的各种元件,它是以普通的结构石墨在石墨化进程中用活性气体净化而成的。已净化的石墨须在防止制品污染的条件下进行机械加工。这种石墨(净化后)的灰分不超越1×10%,铁、铝、镁的含量不该超越3×105%,铜、硼、锰的含量不该超越1×10%。上面这些限制杂质含量都契合纯净级。在这些石墨里,硅钙的含量不大于3×10(质量%),。工业上还有纯度更高的结构石墨。用这种石墨制成的制品通过机械加工之后再进行弥补净化,以削减其外表感染的几率。限制杂质——铁、铝、镁、硼、铜、锰的含量不许超越1×10%,硅的含量不许超越3×10-%,钛、镍、铬及其他元素的含量应少于1x10%。这些石墨的灰分在0~10*%。各种商标特纯石墨的物理力学功能。
注:TM石墨的热处理温度为2700℃,其他各种商标石墨的热处理温度为2800~3000℃。有保护层的特纯高强石墨是由普通细结构石墨通过净化并在真空中脱气,然后用热解炭进行外表增密处理而成的。其制品(加热器、圆盘、石墨皿等)可用于以气体外延生长法制取硅薄膜。制品内杂质含量:铁不超越5×10*%,铝不超越2×10%,镁和铜不超越5x105%,钛不超越1×10*%,镍和钻不超越1×10-%。
热解炭形成的增密保护层的厚度不大于2mm。也可在通过增密处理的石墨制品的外表,还可以沉积厚度不超越0.1mm的热解石墨薄层。石墨制品经热解炭增密处理之后,其透气性和气
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