石墨坩埚氧化温度及原因

一、为什么石墨坩埚在真空环境中会氧化
    石墨坩埚是由碳素石墨制成的，具有高温稳定性和抗腐蚀性的特色，被广泛地应用于各种高温试验中。但在真空环境下，由于石墨坩埚内部的氧气和水蒸气被排出，失去了维护，容易发生氧化反应，构成CO和CO2等氧化物，石墨坩埚外表颜色转黑，甚至出现显着的坑洞和裂纹。导致试验成果的准确性下降。
二、石墨坩埚氧化温度
    一般来说，石墨坩埚的氧化温度范围在600℃-650℃左右。如果在这个温度范围内运用石墨坩埚，应该严厉把控试验时刻，防止过久的高温露出。同时，能够经过下降氧分压、添加维护气氛等方法来减缓石墨坩埚的氧化速度。
三、怎么推迟石墨坩埚的氧化速度
    1.控制试验时刻：在高温环境下，石墨坩埚的氧化速度随时刻的添加而加速。因而，应尽量缩短高温下的试验时刻。
    2.下降氧分压：能够经过在石墨坩埚内加入必定量的还原剂，如纯碳或硅粉等，下降氧分压，减缓氧化速度。
    3.添加维护气氛：在真空环境下运用石墨坩埚时，能够经过运用惰性气体来构成维护气氛，如氩气、氮气等，防止石墨坩埚与氧气接触然后氧化。
四、怎么削减石墨坩埚氧化对试验成果的影响
    1.预处理：运用前先进行预处理，将石墨坩埚加热到必定温度，并注入惰性气体中进行处理，以利于维护石墨坩埚的外表。
    2.及时更换石墨坩埚：当石墨坩埚外表出现氧化反应时，应及时更换石墨坩埚，以免影响试验成果的准确性。
    总之，在试验室中运用石墨坩埚时，应留意它的氧化温度和氧化速度，采纳相应的措施进行维护和推迟氧化速度，以免影响试验成果的准确性。

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